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J-GLOBAL ID：200902137447029399   整理番号：96A0260446

顕微Raman分光法によるシリコン集積回路の局所応力の研究

Micro-Raman spectroscopy to study local mechanical stress in silicon integrated circuits.
著者 (1件)：
DE WOLF I

DE WOLF I について

(Interuniv. Micro-Electronics Center(IMEC), Leuven, BEL)

Interuniv. Micro-Electronics Center(IMEC), Leuven, BEL について


資料名：
Semiconductor Science and Technology  (Semiconductor Science and Technology)

Semiconductor Science and Technology について


巻： 11  号： 2  ページ： 139-154  発行年： 1996年02月 
JST資料番号： E0503B  ISSN： 0268-1242  CODEN： SSTEET  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)
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顕微Raman分光法の理論的背景を,その機械応力に対する感度...
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Raman分光法

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分類 (1件)：
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固体デバイス計測・試験・信頼性 
(NC03040G)

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顕微Raman分光法

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集積回路

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