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J-GLOBAL ID：200902137452425901   整理番号：02A0141370

光重合によるポリシラン-アクリルアミド共重合体の合成及びポリシラン-シリカハイブリッド薄膜への応用

Synthesis of polysilane-acrylamide copolymers by photopolymerization and their application to polysilane-silica hybrid thin films.

著者 (6件)： MATSUURA Y (Osaka Municipal Technical Res. Inst., Osaka, JPN) ,  MATSUKAWA K (Osaka Municipal Technical Res. Inst., Osaka, JPN) ,  KAWABATA R (Doshisha Univ., Kyoto, JPN) ,  HIGASHI N (Doshisha Univ., Kyoto, JPN) ,  NIWA M (Doshisha Univ., Kyoto, JPN) ,  INOUE H (Osaka Municipal Technical Res. Inst., Osaka, JPN)
資料名： Polymer  (Polymer)
巻： 43  号： 4  ページ： 1549-1553  発行年： 2002年02月 
JST資料番号： D0472B  ISSN： 0032-3861  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高分子光ラジカル開始剤としてのポリメチルフェニルシラン(PM...

シソーラス用語： *ブロック共重合 ,...
準シソーラス用語： シリカ ,...

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分類 (1件)： 共重合  (CG04030D)

物質索引 (7件)： テトラエトキシシラン ,  N,N-ジメチルアクリルアミド ,  N,N-ジエチルアクリルアミド ,  1-モルホリノ-2-プロペン-1-オン ,  N-[3-(ジメチルアミノ)プロピル]アクリルアミド ,  N-イソプロピルアクリルアミド ,  アクリル酸2-(ジメチルアミノ)エチル

タイトルに関連する用語 (6件)： 光重合 ,  ポリシラン ,  アクリルアミド ,  共重合体 ,  薄膜 ,  応用