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J-GLOBAL ID：200902137729982986   整理番号：94A0800700

Transparent Photoacid Generator (ALS) for ArF Excimer Laser Lithography and Chemically Amplified Resist.

著者 (6件)： NAKANO K (NEC Corp., Kanagawa, JPN) ,  MAEDA K (NEC Corp., Kanagawa, JPN) ,  IWASA S (NEC Corp., Kanagawa, JPN) ,  YANO J (NEC Corp., Kanagawa, JPN) ,  OGURA Y (NEC Corp., Kanagawa, JPN) ,  HASEGAWA E (NEC Corp., Kanagawa, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 2195  ページ： 194-204  発行年： 1994年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (3件)： ALS ,  ARF ,  LASER