文献

J-GLOBAL ID：200902137889860577   整理番号：03A0086190

空気中での自然酸化中のシリコンの水素終端,酸化物被覆率,粗さ及び表面状態密度の分光研究

Spectroscopic investigations of hydrogen termination, oxide coverage, roughness, and surface state density of silicon during native oxidation in air.

著者 (4件)： HENRION W (Hahn-Meitner-Inst., Berlin, DEU) ,  REBIEN M (Hahn-Meitner-Inst., Berlin, DEU) ,  ANGERMANN H (Hahn-Meitner-Inst., Berlin, DEU) ,  ROESELER A (Inst. Spektrochemie und angewandte Spektroskopie, Berlin, DEU)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 202  号： 3/4  ページ： 199-205  発行年： 2002年12月30日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 水素終端p型Si(111)及びSi(100)ウエハならびにμ...

シソーラス用語： *ケイ素 ,...
準シソーラス用語： 表面光起電力 ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=03A0086190&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=B0707B") }}

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  その他の無触媒反応  (CB06070U)

タイトルに関連する用語 (8件)： 空気中 ,  酸化 ,  シリコン ,  水素終端 ,  酸化物被覆 ,  状態密度 ,  分光 ,  研究