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J-GLOBAL ID：200902137999132690   整理番号：03A0016002

反応性RFイオンプレーティング法によるBN皮膜の形成

Preparation of BN Films by Reactive RF Ion Plating Method.

著者 (4件)： 佐藤忠夫 (室蘭工大) ,  若柳俊一 (室蘭工大 大学院) ,  渡辺孝幸 (室蘭工大 大学院) ,  酒井彰 (室蘭工大)
資料名： 室蘭工業大学紀要  (Memoirs of the Muroran institute of Technology)
号： 52  ページ： 149-154  発行年： 2002年11月30日 
JST資料番号： F0480A  ISSN： 1344-2708  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 溶融金属,溶融ふっ化物に対する耐食性及び耐熱性に優れた六方晶...

シソーラス用語： 薄膜成長 ,...
準シソーラス用語： FTIRスペクトル ,...

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分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (5件)： 反応性 ,  RF ,  イオンプレーティング法 ,  BN ,  皮膜