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J-GLOBAL ID：200902139478190107   整理番号：97A1003163

ワンステップリソグラフィー加工を用いたマイクロレリーフ表面の製造

Fabrication of Microrelief Surfaces using a One-Step Lithography Process.

著者 (6件)： REIMER K (Fraunhofer Inst. Silicon Technol.(ISIT), Itzehoe, DEU) ,  HOFMANN U (Fraunhofer Inst. Silicon Technol.(ISIT), Itzehoe, DEU) ,  JUERSS M (Fraunhofer Inst. Silicon Technol.(ISIT), Itzehoe, DEU) ,  PILZ W (Fraunhofer Inst. Silicon Technol.(ISIT), Itzehoe, DEU) ,  QUENZER H J (Fraunhofer Inst. Silicon Technol.(ISIT), Itzehoe, DEU) ,  WAGNER B (Fraunhofer Inst. Silicon Technol.(ISIT), Itzehoe, DEU)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 3226  ページ： 2-10  発行年： 1997年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (3件)： リソグラフィー ,  マイクロ ,  レリーフ