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J-GLOBAL ID：200902139484735395   整理番号：99A0317172

CVD反応装置最適設計方法の構築と実践 WF₆/SiH₄を原料としたWSix-CVDプロセスの場合

Construction and practice of optimum design methods for CVD reactors. Case study of WSix-CVD processes using WF₆/SiH₄ as raw materials.

著者 (6件)： さい容基 (東大 工) ,  霜垣幸浩 (東大 工) ,  斎藤丈靖 (九大 工) ,  江頭靖幸 (大阪大 工) ,  菅原活朗 (日本大 工) ,  小宮山宏 (東大 工)
資料名： 化学工学会年会研究発表講演要旨集
巻： 63rd  号： 第1分冊  ページ： 281  発行年： 1998年02月 
JST資料番号： X0547A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 従来のCVD装置開発は試作や実験,改良を繰り返す経験的方法が...

シソーラス用語： 半導体材料 ,...

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分類 (2件)： 非金属材料へのセラミック被覆  (YC02040K) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (7件)： CVD ,  反応装置 ,  最適設計 ,  構築 ,  SiH4 ,  原料 ,  プロセス