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J-GLOBAL ID:200902140142777884   整理番号:97A0720181

炭化けい素の化学的機械的研磨

Chemomechanical Polishing of Silicon Carbide.
著者 (4件):
資料名:
巻: 144  号:ページ: L161-L163  発行年: 1997年06月 
JST資料番号: C0285A  ISSN: 1945-7111  CODEN: JESOAN  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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SiC基板の表面をエピタキシアル成長に先立って改善するために...
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分類 (3件):
分類
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固体デバイス製造技術一般  ,  その他の無機化合物の薄膜  ,  塩 
タイトルに関連する用語 (2件):
タイトルに関連する用語
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