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J-GLOBAL ID：200902140142777884   整理番号：97A0720181

炭化けい素の化学的機械的研磨

Chemomechanical Polishing of Silicon Carbide.
著者 (4件)：
ZHOU L

ZHOU L について

(Case Western Reserve Univ., Ohio, USA)

Case Western Reserve Univ., Ohio, USA について

, 
AUDURIER V

AUDURIER V について

(Case Western Reserve Univ., Ohio, USA)

Case Western Reserve Univ., Ohio, USA について

, 
PIROUZ P

PIROUZ P について

(Case Western Reserve Univ., Ohio, USA)

Case Western Reserve Univ., Ohio, USA について

, 
POWELL J A

POWELL J A について

(NASA Lewis Res. Center, Ohio, USA)

NASA Lewis Res. Center, Ohio, USA について


資料名：
Journal of the Electrochemical Society  (Journal of the Electrochemical Society)

Journal of the Electrochemical Society について


巻： 144  号： 6  ページ： L161-L163  発行年： 1997年06月 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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SiC基板の表面をエピタキシアル成長に先立って改善するために...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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炭化ケイ素

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準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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シリカ

シリカ について

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分類 (3件)：
分類
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固体デバイス製造技術一般 
(NC03030V)

固体デバイス製造技術一般 について

,  その他の無機化合物の薄膜 
(BK14060A)

その他の無機化合物の薄膜 について

,  塩 
(CD01050V)

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タイトルに関連する用語 (2件)：
タイトルに関連する用語
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炭化けい素

炭化けい素 について

, 
化学的機械的研磨

化学的機械的研磨 について


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