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J-GLOBAL ID：200902140866253330   整理番号：99A0969627

直流電流サドルフィールドプラズマ増強化学蒸着により蒸着したSi(100)に対する水素添加非晶質炭素窒化皮膜

Hydrogenated amorphous carbon nitride films on Si(100) deposited by direct current saddle-field plasma-enhanced chemical vapor deposition.

著者 (7件)： JANG H K (Yonsei Univ., Seoul, KOR) ,  KIM G (Yonsei Univ., Seoul, KOR) ,  LEE Y S (Yonsei Univ., Seoul, KOR) ,  WHANGBO S W (Yonsei Univ., Seoul, KOR) ,  WHANG C N (Yonsei Univ., Seoul, KOR) ,  YOO Y-Z (Kwangju Inst. Sci. and Technol., Kwangju, KOR) ,  KIM H G (Kwangju Inst. Sci. and Technol., Kwangju, KOR)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 17  号： 5  ページ： 2607-2611  発行年： 1999年09月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (10件)： 直流電流 ,  サドル ,  フィールド ,  プラズマ増強化学蒸着 ,  蒸着 ,  Si ,  水素添加 ,  非晶質炭素 ,  窒化 ,  皮膜