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J-GLOBAL ID：200902140953965850   整理番号：95A0834693

原子間力顕微鏡に基づくリソグラフィーを用いたナノ構造の作製

Fabrication of nanostructures using atomic-force-microscope-based lithography.

著者 (2件)： SOHN L L (AT&T Bell Lab., New Jersey) ,  WILLETT R L (AT&T Bell Lab., New Jersey)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 67  号： 11  ページ： 1552-1554  発行年： 1995年09月11日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 原子間力顕微鏡(AFM)を用いて基板上に金属のナノ構造を作製...

シソーラス用語： うね立て ,...

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分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 原子間力顕微鏡 ,  リソグラフィー ,  ナノ構造 ,  作製