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J-GLOBAL ID：200902141832103955   整理番号：01A0283088

小型質量分析計を用いたTiN膜の反応性スパッタリング過程の追跡

Studies on reactive sputtering process of TiN films using small mass analyzers.

著者 (3件)： BANNO T (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  MICHIZONO S (High Energy Accelerator Res. Organization, Tsukuba, JPN) ,  SAITO Y (High Energy Accelerator Res. Organization, Tsukuba, JPN)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 169/170  ページ： 757-762  発行年： 2001年01月15日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 差動排気ユニットなしの放電容器内に設置した小型質量分析計を用...

シソーラス用語： *質量分析 ,...
準シソーラス用語： 窒化チタン

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分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  質量分析  (CC03013N)

タイトルに関連する用語 (5件)： 質量分析計 ,  TiN膜 ,  反応性スパッタリング ,  過程 ,  追跡