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J-GLOBAL ID：200902141956832254   整理番号：94A0062561

二酸化けい素の遠隔プラズマ活性化化学蒸着のためのHe/O2/SiH4とHe/N2O/SiH4混合ガスのプラズマ化学

Plasma chemistry of He/O2/SiH4 and He/N2O/SiH4 mixtures for remote plasma-activated chemical-vapor deposition of silicon dioxide.
著者 (1件)：
KUSHNER M J

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(Univ. Illinois, Illinois)

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資料名：
Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)

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巻： 74  号： 11  ページ： 6538-6553  発行年： 1993年12月01日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
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プラズマ応用 
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