ガリウムひ素上液相成長SiO<sub>2</sub>膜の質の最適化

文献

J-GLOBAL ID：200902142318212709 整理番号：01A0083806

ガリウムひ素上液相成長SiO₂膜の質の最適化

Quality optimization of liquid phase deposition SiO₂ films on gallium arsenide.

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資料名：
巻： 44 号： 11 ページ： 1917-1923 発行年： 2000年11月
JST資料番号： H0225A ISSN： 0038-1101 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

ガリウムひ素(GaAs)上へのシリコン酸化膜(SiO<sub...

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酸化物薄膜

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