文献

J-GLOBAL ID：200902142895328678   整理番号：00A0362951

N₂とAr中でのSiCの反応性スパッタリングによって作製したSiC_xN_y薄膜の構造解析と微細構造観察

Structural analysis and microstructural observation of SiC_xN_y films prepared by reactive sputtering of SiC in N₂ and Ar.

著者 (5件)： XIAO X-C (Shanghai Inst. Ceramics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN) ,  LI Y-W (Shanghai Inst. Ceramics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN) ,  SONG L-X (Shanghai Inst. Ceramics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN) ,  PENG X-F (Shanghai Inst. Ceramics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN) ,  HU X-F (Shanghai Inst. Ceramics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 156  号： 1/4  ページ： 155-160  発行年： 2000年02月 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標記薄膜の構造特性の評価を行った。XPSとFTIRによってS...

シソーラス用語： *ケイ素化合物 ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=00A0362951&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=B0707B") }}

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (9件)： N2 ,  Ar ,  SiC ,  反応性スパッタリング ,  作製 ,  薄膜 ,  構造解析 ,  微細構造 ,  観察