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J-GLOBAL ID：200902143036208209   整理番号：99A0991402

ビス-エチルシクロペンタジエニルルテニウムを用いた液体源化学蒸着により作製したルテニウム薄膜

Ruthenium Films Prepared by Liquid Source Chemical Vapor Deposition Using Bis-(ethylcyclopentadienyl)ruthenium.

著者 (2件)： AOYAMA T (Toshiba Corp., Yokohama, JPN) ,  EGUCHI K (Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 38  号： 10A  ページ： L1134-L1136  発行年： 1999年10月01日 
JST資料番号： F0599B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標記薄膜を標記液体源ビス-Ru(C₂H...

シソーラス用語： シクロペンタジエニル錯体 ,...

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分類 (1件)： 金属薄膜  (BK14030T)

引用文献 (13件)：

• 1) T. Aoyama, S. Saida, Y. Okayama, M. Fujisaki, K. Imai and T. Arikado: J. Electrochem. Soc. 143 (1996) 977.
• 2) H. Yamaguchi et al.: `96 IEEE IEDM Tech. Dig. (IEEE, Piscataway, 1996) p. 675.
• 3) A. Yuuki, M. Yamamuka, T. Makita, T. Horikawa, T. Shibano, N. Hirano, H. Maeda, N. Mikami, K. Ono, H. Ogata and H. Abe: `95 IEEE IEDM Tech. Dig. (IEEE, Piscataway, 1995) p. 115.
• 4) T. Aoyama, S. Yamazaki and K. Imai: J. Electrochem. Soc. 145 (1998) 2961.
• 5) T. Aoyama, A. Murakoshi and K. Imai: Jpn. J. Appl. Phys. 37 (1998) 5701.

タイトルに関連する用語 (6件)： ビス ,  液体源 ,  化学蒸着 ,  作製 ,  ルテニウム ,  薄膜