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J-GLOBAL ID:200902143455180063   整理番号:00A0509642

ストラクチャーダイナミックス 基板に拘束された薄膜の高温変形と高い残留応力の存在

High temperature deformation and threshold behavior in thin films restrained by substrates.
著者 (1件):
資料名:
巻: 39  号:ページ: 438-442  発行年: 2000年05月20日 
JST資料番号: F0163A  ISSN: 1340-2625  CODEN: MTERE2  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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Si基板に拘束されたAl,Cu薄膜の変形に関する最近の結果を...
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分類 (1件):
分類
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金属薄膜 

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