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J-GLOBAL ID：200902144015560200   整理番号：00A0491907

レーザーアブレーションによる有機ケイ素高分子薄膜の作製と評価

Preparation and Estimation of Thin Films From Organosilicon-based Polymers by a Laser Ablation Method.

著者 (4件)： 藤野隆弘 (大阪府大 先端科研) ,  光本欣正 (大阪府大 先端科研) ,  岡邦雄 (大阪府大 先端科研) ,  堂丸隆祥 (大阪府大 先端科研)
資料名： 真空  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
巻： 43  号： 3  ページ： 373-376  発行年： 2000年03月20日 
JST資料番号： G0194A  ISSN： 0559-8516  CODEN： SHINA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ポリメチルフェニルシラン(PMPS)とポリジメチルシラン(P...

シソーラス用語： 高分子薄膜 ,...
準シソーラス用語： ポリジメチルシラン ,...

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分類 (3件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  有機化合物のルミネセンス  (BM08094A) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

引用文献 (6件)：

• SUZUKI, M. Mater.Sci.Eng. 1998, A246, 36
• ZENG, X. J.Mater.Res. 1999, 14
• XU, Y. Chem.Lett. 1998, 299
• XU, Y. Jpn.J.Appl.Phys. 1999, 38, 2609
• HATTORI, R. Jpn.J.Appl.Phys. 1997, 11B, L1509

タイトルに関連する用語 (5件)： レーザーアブレーション ,  有機ケイ素 ,  高分子薄膜 ,  作製 ,  評価