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J-GLOBAL ID：200902144129646474   整理番号：96A0909175

反応性スパッタリングによって作製した酸化インジウムすず膜の電気的および光学的特性に及ぼす酸素含有量の効果

The effects of oxygen content on electrical and optical properties of indium tin oxide films fabricated by reactive sputtering.

著者 (3件)： HONDA S (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  WATAMORI M (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  OURA K (Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 281/282  号： 1/2  ページ： 206-208  発行年： 1996年08月01日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 反応性スパッタリングによって作製した酸化インジウムすず膜の酸...

シソーラス用語： 反応性スパッタリング ,...
準シソーラス用語： ITO【固溶体】

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分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： 反応性スパッタリング ,  作製 ,  酸化インジウムすず ,  光学的特性 ,  酸素含有量