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J-GLOBAL ID：200902145775852720   整理番号：98A0852192

ArFリソグラフィー用のシクロオレフィン-無水マレイン酸レジストの設計

Design of cycloolefin-maleic anhydride resist for ArF lithography.

著者 (3件)： JUNG J-C (Hyundai Electronics Ind. Co., Ltd., Kyoungki-do, KOR) ,  BOK C-K (Hyundai Electronics Ind. Co., Ltd., Kyoungki-do, KOR) ,  BAIK K-H (Hyundai Electronics Ind. Co., Ltd., Kyoungki-do, KOR)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 3333  号： Pt.1  ページ： 11-25  発行年： 1998年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (6件)： ARF ,  リソグラフィー ,  シクロオレフィン ,  無水マレイン酸 ,  レジスト ,  設計