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J-GLOBAL ID：200902146027500133   整理番号：02A0754341

太陽電池用窒化シリコンの高密度誘導結合プラズマ化学蒸着

High-density inductively coupled plasma chemical vapor deposition of silicon nitride for solar cell application.

著者 (9件)： PARM I O (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR) ,  KIM K (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR) ,  LIM D G (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR) ,  LEE J H (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR) ,  HEO J H (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR) ,  KIM J (Samsung SDI, Suwon, KOR) ,  KIM D S (Samsung SDI, Suwon, KOR) ,  LEE S H (Samsung SDI, Suwon, KOR) ,  YI J (Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR)
資料名： Solar Energy Materials and Solar Cells  (Solar Energy Materials and Solar Cells)
巻： 74  号： 1/4  ページ： 97-105  発行年： 2002年10月 
JST資料番号： D0513C  ISSN： 0927-0248  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 窒化シリコン膜をプレーナコイル反応器中で高密度誘導結合プラズ...

シソーラス用語： 太陽電池 ,...

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分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (5件)： 太陽電池 ,  窒化シリコン ,  高密度 ,  誘導結合プラズマ ,  化学蒸着