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J-GLOBAL ID：200902147154667647   整理番号：01A0886638

43fsレーザパルスの銅膜への照射による相対論的電子の生成

Production of relativistic electrons by irradiation of 43-fs-laser pulses on copper film.

著者 (7件)： OISHI Y (Central Res. Inst. Electric Power Ind., Tokyo, JPN) ,  NAYUKI T (Central Res. Inst. Electric Power Ind., Tokyo, JPN) ,  NEMOTO K (Central Res. Inst. Electric Power Ind., Tokyo, JPN) ,  OKANO Y (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  HIRONAKA Y (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  NAKAMURA K G (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  KONDO K (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 79  号： 9  ページ： 1234-1236  発行年： 2001年08月27日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 超高強度超短レーザパルスを利用すると,比較的小型の装置で相対...

シソーラス用語： *パルスレーザ照射 ,...

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分類 (3件)： 電子ビーム,イオンビーム  (BD02030F) ,  時間,速度,加速度,角速度の計測法・機器  (AD05040K) ,  レーザの応用  (BD04100V)

タイトルに関連する用語 (3件)： レーザパルス ,  銅 ,  相対論的電子