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J-GLOBAL ID：200902148101254835   整理番号：02A0539266

プラズマ含浸イオン注入における入射イオン粒子束モニタのためのシース加速二次電子の直接測定

Direct measurements of sheath-accelerated secondary electrons for monitoring the incident ion flux in plasma immersion ion implantation.

著者 (3件)： NAKAMURA K (Chubu Univ., JPN) ,  TANAKA M (Nagoya Univ., JPN) ,  SUGAI H (Nagoya Univ., JPN)
資料名： Plasma Sources Science and Technology  (Plasma Sources Science and Technology)
巻： 11  号： 2  ページ： 161-164  発行年： 2002年05月 
JST資料番号： W0479A  ISSN： 0963-0252  CODEN： PSTEEU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 三次元物体の表面改質が可能なプラズマ含浸イオン注入過程におい...

シソーラス用語： *イオン注入 ,...
準シソーラス用語： *プラズマプロセシング

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分類 (1件)： プラズマ応用  (BJ02110K)

タイトルに関連する用語 (10件)： プラズマ ,  含浸 ,  イオン注入 ,  イオン ,  粒子束 ,  モニタ ,  シース ,  加速 ,  二次電子 ,  直接測定