真空紫外光を用いたメソ多孔質シリカ膜の光焼成

HOZUMI A; YOKOGAWA Y; KAMEYAMA T; HIRAKU K; SUGIMURA H; TAKAI O; OKIDO M

文献

J-GLOBAL ID：200902148490730760 整理番号：00A0720654

真空紫外光を用いたメソ多孔質シリカ膜の光焼成

Photocalcination of Mesoporous Silica Films Using Vacuum Ultraviolet Light.

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資料名：
巻： 12 号： 13 ページ： 985-987 発行年： 2000年07月05日
JST資料番号： W0001A ISSN： 0935-9648 CODEN： ADVMEW 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：ドイツ (DEU) 言語：英語 (EN)

メソ多孔質シリカの合成においてテンプレートとして添加される界...

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吸着剤 , 酸化物薄膜

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