低周波数(50Hz)プラズマ化学蒸着を用いたTiNの三次元蒸着

SHIMOZUMA M; DATE H; IWASAKI T; TAGASHIRA H; YOSHINO M; YOSHIDA K

文献

J-GLOBAL ID：200902148554423352 整理番号：97A0770861

低周波数(50Hz)プラズマ化学蒸着を用いたTiNの三次元蒸着

Three-dimensional deposition of TiN film using low frequency(50Hz) plasma chemical vapor deposition.

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資料名：
巻： 15 号： 4 ページ： 1897-1901 発行年： 1997年07月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

TiCl₄+N₂...

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