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J-GLOBAL ID：200902149361554251   整理番号：01A0114811

フォトリソグラフィによるSiウエハ上へのパターニング

Patterning on Silicon Wafers by Photolithography.

著者 (8件)： 安間守 (静岡県静岡工技セ) ,  佐藤夏夫 (静岡県静岡工技セ) ,  佐藤憲治 (静岡県静岡工技セ) ,  吉岡正行 (静岡県静岡工技セ) ,  長津義之 (静岡県静岡工技セ) ,  横山尚人 (富士セラミックス) ,  浦野秀一 (スターシステム開発) ,  飯田克彦 (駿河精機)
資料名： 静岡県静岡工業技術センター研究報告  (Reports of the Shizuoka Industrial Research Institute of Shizuoka Prefecture)
号： 45  ページ： 11-16  発行年： 2000年10月 
JST資料番号： G0604A  ISSN： 0916-6572  CODEN： SSSHEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： フォトリソグラフィによるSiウエハ上へのパターニングを行い,...

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： フォトリソグラフィ ,  Siウエハ ,  パターニング