化学的機械的研磨中の酸化物/ポリシリコン選択性におよぼす非イオン界面活性剤の影響

LEE J-D; PARK Y-R; YOON B U; HAN Y-P; HAH S R; MOON J-T

文献

J-GLOBAL ID：200902150486715743 整理番号：02A0695885

化学的機械的研磨中の酸化物/ポリシリコン選択性におよぼす非イオン界面活性剤の影響

Effects of Nonionic Surfactants on Oxide-to-Polysilicon Selectivity during Chemical Mechanical Polishing.

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資料名：
巻： 149 号： 8 ページ： G477-G481 発行年： 2002年08月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

化学的機械的研磨中の酸化物/ポリシリコン選択性に対する界面活...

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固体の機械的性質一般 , 固体デバイス製造技術一般 , 化学一般その他

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