ウエハ融解による半導体フォトニックバンドギャップのアラインメントと積重ね

NODA S; YAMAMOTO N; IMADA M; KOBAYASHI H; OKANO M

文献

J-GLOBAL ID：200902150542425451 整理番号：00A0060312

ウエハ融解による半導体フォトニックバンドギャップのアラインメントと積重ね

Alignment and Stacking of Semiconductor Photonic Bandgaps by Wafer-Fusion.

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資料名：
巻： 17 号： 11 ページ： 1948-1955 発行年： 1999年11月
JST資料番号： H0922A ISSN： 0733-8724 CODEN： JLTEDG 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

ウエハ融解とアラインメント技術を用いて半導体ベース三次元フォ...

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量子光学一般 , 半導体レーザ

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