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J-GLOBAL ID：200902151847280093   整理番号：99A0276994

二光子励起によるレーザ誘起蛍光を用いた水素原子測定におけるSiH₄プラズマ中のSH₃ラジカルのレーザ誘起解離の影響

Effect of laser-induced dissociation of SiH₃ radicals in SiH₄ plasmas during atomic hydrogen measurements using laser-induced fluorescence by a two-photon excitation.

著者 (7件)： MIYAZAKI K (Kurume National Coll. Technol., Fukuoka, JPN) ,  MISHIRO Y (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  KAJIWARA T (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  UCHINO K (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  MURAOKA K (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  OKADA T (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  MAEDA M (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 17  号： 1  ページ： 155-158  発行年： 1999年01月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： レーザ光によってSH₃ラジカルから解離...

シソーラス用語： *プラズマ化学反応 ,...
準シソーラス用語： *プラズマプロセシング

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分類 (2件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  荷電体衝撃・放電による反応  (CB06020R)

タイトルに関連する用語 (8件)： 二光子励起 ,  レーザ誘起蛍光 ,  水素原子 ,  SiH4 ,  プラズマ ,  ラジカル ,  レーザ誘起 ,  解離