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J-GLOBAL ID：200902151927110784   整理番号：95A0253704

N₂アニーリングによる液相堆積した酸化物(SiO_2-xF_xの結合構造の変化

Bond-structure changes of liquid phase deposited oxide (SiO_2-xF_x) on N₂ annealing.

著者 (4件)： YEH C-F (National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN) ,  CHEN C-L (National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN) ,  LUR W (United Microelectronics Corp., Hsinchu, TWN) ,  YEN P-W (United Microelectronics Corp., Hsinchu, TWN)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 66  号： 8  ページ： 938-940  発行年： 1995年02月20日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 35°Cで液相堆積(LPD)によって作製した酸化けい素中にふっ...

シソーラス用語： 酸化ケイ素 ,...

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分類 (1件)： 酸化物の結晶成長  (BK13050I)

タイトルに関連する用語 (5件)： N2 ,  アニーリング ,  液相 ,  堆積 ,  酸化物