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J-GLOBAL ID：200902152845550189   整理番号：95A0756991

プラズマ堆積させた酸化窒化けい素薄膜の二軸弾性率,真性応力と組成の温度依存性

Temperature dependence of the biaxial modulus, intrinsic stress and composition of plasma deposited silicon oxynitride films.

著者 (3件)： HARDING D R (NASA Lewis Res. Center, Ohio) ,  OGBUJI L U T (NASA Lewis Res. Center, Ohio) ,  FREEMAN M J (Rensellear Polytechnic Inst., New York)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 78  号： 3  ページ： 1673-1680  発行年： 1995年08月01日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： SiO_0.3N<sub>1.0</su...

シソーラス用語： プラズマCVD ,...
準シソーラス用語： 歪緩和

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分類 (2件)： 固体の機械的性質一般  (BL01021C) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (9件)： プラズマ ,  堆積 ,  酸化窒化けい素 ,  薄膜 ,  二軸 ,  弾性率 ,  応力 ,  組成 ,  温度依存性