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J-GLOBAL ID：200902152975575256   整理番号：99A0246554

レーザアブレーションによりSi基板上に形成したErドープナノ結晶Si導波路の作製と誘導放出

Fabrication and stimulated emission of Er-doped nanocrystalline Si waveguides formed on Si substrates by laser ablation.

著者 (5件)： ZHAO X (Inst. Physical and Chemical Res.(RIKEN), Saitama, JPN) ,  KOMURO S (Inst. Physical and Chemical Res.(RIKEN), Saitama, JPN) ,  ISSHIKI H (Inst. Physical and Chemical Res.(RIKEN), Saitama, JPN) ,  AOYAGI Y (Inst. Physical and Chemical Res.(RIKEN), Saitama, JPN) ,  SUGANO T (Inst. Physical and Chemical Res.(RIKEN), Saitama, JPN)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 74  号： 1  ページ： 120-122  発行年： 1999年01月04日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標題導波路の特性を光ポンピングにより調べた。測定の結果,室温...

シソーラス用語： *ケイ素 ,...

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分類 (2件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H) ,  半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (8件)： レーザアブレーション ,  Si基板 ,  Er ,  ドープ ,  結晶Si ,  導波路 ,  作製 ,  誘導放出