BiI<sub>3</sub>中の積層不整面位置に局在した高密度励起子の空間伝搬

KONDO H; MINO H; AKAI I; KARASAWA T

文献

J-GLOBAL ID：200902155725494675 整理番号：99A0117199

BiI₃中の積層不整面位置に局在した高密度励起子の空間伝搬

Spatial propagation of high-density excitons localized at a stacking disorder plane in BiI₃.

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巻： 58 号： 20 ページ： 13835-13846 発行年： 1998年11月15日
JST資料番号： D0746A ISSN： 1098-0121 CODEN： PRBMDO 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

層状BiI₃中の特定の積層欠陥界面の2...

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励起子

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BiI3中の積層不整面位置に局在した高密度励起子の空間伝搬

BiI₃中の積層不整面位置に局在した高密度励起子の空間伝搬