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J-GLOBAL ID:200902156510523522   整理番号:93A0359724

Chemical vapour deposition precursors for metal silicides.

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資料名:
巻: 17  号: 1/3  ページ: 118-125  発行年: 1993年02月28日 
JST資料番号: T0553A  ISSN: 0921-5107  資料種別: 逐次刊行物 (A)
発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)

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