マルチカプス磁場を用いた方位対称表面波で励起した新しいマイクロ波プラズマ源

TUDA M; ONO K

文献

J-GLOBAL ID：200902156737658610 整理番号：98A0954861

マルチカプス磁場を用いた方位対称表面波で励起した新しいマイクロ波プラズマ源

New-type microwave plasma source excited by azimuthally symmetric surface waves with magnetic multicusp fields.

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巻： 16 号： 5 ページ： 2832-2839 発行年： 1998年09月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

材料プロセス用の新しいマイクロ波プラズマ源を開発した。このプ...

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プラズマ装置 , 薄膜成長技術・装置

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