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J-GLOBAL ID：200902156986241045   整理番号：02A0858852

水溶液中レーザーアブレーションによる酸化物ナノ構造体の調製

著者 (4件)： 佐々木毅 (産業技術総合研 界面ナノアーキテクトニクス研セ) ,  LIANG C (産業技術総合研 界面ナノアーキテクトニクス研セ) ,  清水禎樹 (産業技術総合研 界面ナノアーキテクトニクス研セ) ,  越崎直人 (産業技術総合研 界面ナノアーキテクトニクス研セ)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 63rd  号： 3  ページ： 974  発行年： 2002年09月24日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *レーザアブレーション ,...

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分類 (2件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S) ,  コロイド化学一般  (CB11010C)

物質索引 (1件)： ラウリル硫酸ナトリウム

タイトルに関連する用語 (5件)： 水溶液 ,  レーザーアブレーション ,  酸化物 ,  ナノ構造体 ,  調製