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J-GLOBAL ID：200902157826120221   整理番号：94A0124157

Dissolution Rate Modeling of A Chemically Amplified Positive Resist.

著者 (4件)： OHFUJI T (NEC Corp., Kanagawa, JPN) ,  TIMKO A G (AT&T Bell Lab., NJ) ,  NALAMASU O (AT&T Bell Lab., NJ) ,  STONE D R (AT&T Bell Lab., NJ)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 1925  ページ： 213-226  発行年： 1993年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)