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J-GLOBAL ID：200902158618169183   整理番号：97A0669568

高周波マグネトロンスパッタ法で作製したアルミニウムドープ酸化亜鉛膜の構造と電気的,光学的特性

Structural, electrical and optical properties of aluminum doped zinc oxide films prepared by radio frequency magnetron sputtering.

著者 (3件)： KIM K H (Gyeongsang National Univ., Chinju, KOR) ,  PARK K C (Gyeongsang National Univ., Chinju, KOR) ,  MA D Y (Gyeongsang National Univ., Chinju, KOR)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 81  号： 12  ページ： 7764-7772  発行年： 1997年06月15日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Alドーピング源としてAl₂O<sub...

シソーラス用語： 酸化亜鉛 ,...
準シソーラス用語： 禁止帯

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分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (6件)： 高周波マグネトロンスパッタ法 ,  作製 ,  アルミニウム ,  ドープ ,  酸化亜鉛 ,  光学的特性