CVD法によるTiC<sub>1-x</sub>膜の反応機構と成長速度

文献

J-GLOBAL ID：200902158805072959 整理番号：99A0065182

CVD法によるTiC_1-x膜の反応機構と成長速度

Kinetics and Reaction Mechanisms of TiC_1-x Films by Thermal CVD.

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資料名：
巻： 1998 ページ： 253 発行年： 1998年10月
JST資料番号： X0038A 資料種別：会議録 (C)
発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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