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J-GLOBAL ID：200902158857024189   整理番号：96A0613996

193nmレジスト用の新規の重合体

A Novel Polymer for a 193-nm Resist.

著者 (6件)： NOZAKI K (Fijitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN) ,  WATANABE K (Fijitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN) ,  YANO E (Fijitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN) ,  KOTACHI A (Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN) ,  TAKECHI S (Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN) ,  HANYU I (Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 9  号： 3  ページ： 509-522  発行年： 1996年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： テトラアンモニウムヒドロキシド(A)現像液との親和性を保ちな...

シソーラス用語： レーザリソグラフィー ,...
準シソーラス用語： 橋架け化合物 ,...

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分類 (3件)： その他の高分子の反応  (CG03040H) ,  アクリル樹脂  (YH07110K) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (2件)： メタクリル酸(2-オキソ-4-メチル-5,6-ジヒドロ-2H-ピラン)-4(3H)-イル ,  メタクリル酸2-メチル-2-アダマンチル

引用文献 (13件)：

• 1) S. Takechi, Y. Kaimoto, K. Nozaki and N. Abe, J. Photopolym. Sci. Technol., 5(3), 439(1992).
• 2) Y. Kaimoto, K. Nozaki, S. Takechi, and N. Abe, Proc. SPIE, 1672, 66(1992).
• 3) K. Nozaki, Y. Kaimoto, S. Takechi, and N. Abe, Extended Abstracts, The 53rd Autumn Meeting JSAP, 504(1992).
• 4) K. Nozaki, Y. Kaimoto, M. Takahashi, S. Takechi, and N. Abe, Chem. Mater. 6(9), 1492(1994).
• 5) S. Takechi, M. Takahashi, and I. Hanyu, Proc. OCG Microlithography, INTERFACE'95, 43 (1995).

タイトルに関連する用語 (2件)： レジスト ,  重合体