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J-GLOBAL ID：200902159109434346   整理番号：00A0956175

シールド式反応性真空アーク蒸着による金属窒化物及び酸化物薄膜の作製

Preparation of metal nitride and oxide thin films using shielded reactive vacuum arc deposition.

著者 (5件)： MIYANO R (Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN) ,  KIMURA K (Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN) ,  IZUMI K (Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN) ,  TAKIKAWA H (Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN) ,  SAKAKIBARA T (Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN)
資料名： Vacuum  (Vacuum)
巻： 59  号： 1  ページ： 159-167  発行年： 2000年10月 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 種々の金属窒化物及び酸化物の薄膜を標記方法で作製した。金属イ...

シソーラス用語： 真空アーク ,...

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分類 (3件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (6件)： シールド ,  反応性 ,  真空アーク蒸着 ,  金属窒化物 ,  酸化物薄膜 ,  作製