反応性スパッタしたTa<sub>2</sub>O<sub>5</sub>の急速熱処理薄膜

文献

J-GLOBAL ID：200902159276080084 整理番号：95A0371380

反応性スパッタしたTa₂O₅の急速熱処理薄膜

Rapid thermal processed thin films of reactively sputtered Ta₂O₅.

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資料名：
巻： 258 号： 1/2 ページ： 230-235 発行年： 1995年03月15日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

反応性マグネトロンスパッタで標記薄膜をSiとPtで被覆したS...

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酸化物薄膜 , 金属-絶縁体-半導体構造

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