文献

J-GLOBAL ID：200902160154678165   整理番号：00A0294342

SPD法による化合物半導体薄膜の形成 (2) SPD法によるTiO₂薄膜の形成と表面形態制御の試み

Attempt to Synthesize TiO₂ Thin Films by a SPD Technique and their Surface Morphology.

著者 (1件)： 奥谷昌之 (静岡大 工)
資料名： 機能材料  (Function & Materials)
巻： 20  号： 3  ページ： 14-20  発行年： 2000年03月 
JST資料番号： Y0021A  ISSN： 0286-4835  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 前記事に続き,SPD法により,幅広い用途をもつ機能性材料であ...

シソーラス用語： *酸化チタン ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=00A0294342&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Y0021A") }}

分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (6件)： SPD ,  半導体薄膜 ,  TiO2 ,  薄膜 ,  形態制御 ,  試み