ECRプラズマにおけるプラズマ均一性とエッチング形状のパターン依存性

文献

J-GLOBAL ID：200902160743440225 整理番号：93A0648834

Plasma Uniformity and Pattern Dependence of Etched Profile in ECR Plasma.

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著者 (1件)：
資料名：
巻： 40th 号： Pt 2 ページ： 529 発行年： 1993年03月
JST資料番号： Y0054A 資料種別：会議録 (C)
発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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