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J-GLOBAL ID：200902160774880606   整理番号：94A0438031

超清浄ウエハ表面実現のための改良湿式化学洗浄法

Improved Wet Chemical Cleaning for Realization of Ultra Clean Wafer Surface.

著者 (4件)： OHMI T (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  IMAOKA T (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  TAKANO J (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  KUNIMOTO F (Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名： Particulate Science and Technology  (Particulate Science and Technology)
巻： 11  号： 3/4  ページ： 229-243  発行年： 1993年07月 
JST資料番号： D0645B  ISSN： 0272-6351  CODEN： PTCHDS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 超清浄ウエハ表面実現のための湿式洗浄法について検討した。従来...

シソーラス用語： 清浄面 ,...
準シソーラス用語： 清浄化

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (2件)： ウエハ ,  化学洗浄