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J-GLOBAL ID：200902161189171116   整理番号：97A0093029

rfマグネトロンスパッタリングで作製した酸化チタン膜の特性評価

Characterizations of titanium oxide films prepared by radio frequency magnetron sputtering.

著者 (4件)： MARTIN N (Lab. Metrologie des Interfaces Techniques, Montbeliard, FRA) ,  ROUSSELOT C (Lab. Metrologie des Interfaces Techniques, Montbeliard, FRA) ,  SAVALL C (Lab. Physique et de Metrologie des Oscillateurs, Montbeliard, FRA) ,  PALMINO F (Lab. Physique et de Metrologie des Oscillateurs, Montbeliard, FRA)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 287  号： 1/2  ページ： 154-163  発行年： 1996年10月30日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 99.6%のTiターゲットからrf反応性マグネトロンスパッタ...

シソーラス用語： マグネトロンスパッタリング ,...

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分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： RFマグネトロンスパッタリング ,  作製 ,  酸化チタン膜 ,  特性評価