文献
J-GLOBAL ID：200902161352558660   整理番号：94A0078988

In situ ellipsometric observation of the growth of crystalline silicon from fluorinated precursors.

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著者 (3件)：
AKASAKA T

AKASAKA T について

(Tokyo Inst. Technology, Yokohama-city, JPN)

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ARAKI Y

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(Tokyo Inst. Technology, Yokohama-city, JPN)

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SHIMIZU I

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(Tokyo Inst. Technology, Yokohama-city, JPN)

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資料名：
Amorphous Silicon Technology - 1993  (Amorphous Silicon Technology - 1993)

Amorphous Silicon Technology - 1993 について


ページ： 19-24  発行年： 1993年 
JST資料番号： K19930659  ISBN： 1-55899-193-X  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

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