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J-GLOBAL ID：200902161989414505   整理番号：01A0596264

チタンイソプロポキシドと塩化ジルコニウムからチタン酸ジルコニウムの原子層蒸着

Atomic Layer Deposition of Zirconium Titanium Oxide from Titanium Isopropoxide and Zirconium Chloride.

著者 (3件)： RAHTU A (Univ. Helsinki, Helsinki, FIN) ,  RITALA M (Univ. Helsinki, Helsinki, FIN) ,  LESKELAE M (Univ. Helsinki, Helsinki, FIN)
資料名： Chemistry of Materials  (Chemistry of Materials)
巻： 13  号： 5  ページ： 1528-1532  発行年： 2001年05月 
JST資料番号： T0893A  ISSN： 0897-4756  CODEN： CMATEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ガラス基板上の200~300°CでのZr<sub>x</sub...

シソーラス用語： *原子層エピタクシー ,...
準シソーラス用語： ALE成長 ,...

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分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

物質索引 (1件)： チタン(IV)テトライソプロポキシド

タイトルに関連する用語 (5件)： チタン ,  イソプロポキシド ,  塩化ジルコニウム ,  チタン酸ジルコニウム ,  原子層蒸着