Ar/Cl<sub>2</sub>/O<sub>2</sub>プラズマによるPtのエッチング中のエッチ傾斜のコントロール

文献

J-GLOBAL ID：200902162523637896 整理番号：96A0543111

Ar/Cl₂/O₂プラズマによるPtのエッチング中のエッチ傾斜のコントロール

Control of Etch Slope during Etching of Pt in Ar/Cl₂/O₂ Plasmas.

出版者サイト複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=96A0543111&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=96A0543111&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0520B") }}

著者 (6件)： , , , , ,
資料名：
巻： 35 号： 4B ページ： 2501-2504 発行年： 1996年04月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

磁気促進RIE装置でのエッチングにより0.25μm設計のPt...

,...

続きはJDreamIII（有料）にて {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=96A0543111&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0520B") }}

プラズマ応用 , 固体デバイス製造技術一般

引用文献 (11件)：

, , , , , ,

前のページに戻る