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J-GLOBAL ID：200902162656088313   整理番号：02A0859719

有機金属気相法によるAlN:Ce薄膜の作製

著者 (4件)： 東田恭子 (東京工大 像情報工学研究施設) ,  佐藤歩 (東京工大 像情報工学研究施設) ,  敦森俊幸 (東京工大 像情報工学研究施設) ,  原和彦 (東京工大 像情報工学研究施設)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 63rd  号： 3  ページ： 1265  発行年： 2002年09月24日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *窒化アルミニウム ,...

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分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (6件)： 有機金属 ,  気相 ,  AlN ,  Ce ,  薄膜 ,  作製