文献

J-GLOBAL ID：200902162886162890   整理番号：93A0472645

平行平板RF放電における直流自己バイアス電圧の発生とその抑制

Generation and Suppression of DC Self-Bias Voltage in Parallel-Plate RF Discharges.

著者 (5件)： 石川稜威男 (山梨大 工) ,  永関一也 (山梨大 工) ,  西村栄一 (東京エレクトロン) ,  斉藤幸典 (山梨大 工) ,  菅ノ又伸治 (山梨大 工)
資料名： 真空  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
巻： 36  号： 3  ページ： 295-298  発行年： 1993年03月 
JST資料番号： G0194A  ISSN： 0559-8516  CODEN： SHINA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 絶縁性の放電容器に取り付けたほぼ対称な平行平板電極を有する装...

シソーラス用語： 高周波放電 ,...
準シソーラス用語： 圧力依存性 ,...

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分類 (1件)： プラズマ応用  (BJ02110K)

引用文献 (4件)：

• CHAPMAN, B. Glow discharge processes. 1980, 143
• KOHLER, K. J. Appl. Phys. 1984, 57, 59-66
• SONG, Y. P. J. Phys. D. 1990, 23, 673-681
• ISHIKAWA, I. Proc. 9th Symposium on Plasma Processing. 1992, 287-90

タイトルに関連する用語 (4件)： 平行平板 ,  RF放電 ,  直流 ,  自己バイアス